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Tin-doped indium oxide (ITO) has found widespread use in solar cells, displays, and touch screens as a transparent electrode; however, two major problems with ITO remain: high reflectivity (up t...
Indian-tin-oxide ITO transparent conductive films were deposited by the Reactive low-voltage ion plating (RLVIP) technique. CO2 and O2 gases were used as reactive gases coming into the vacuum. The eff...
期刊信息 篇名 脉冲偏压电弧离子镀低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能 语种 中文 撰写或编译 作者 黄美东,孙超,林国强,董闯,闻立时 第一作者单位 刊物名称 金属学报 页面 2003年5月,第39卷第5期P516~520 出版日期 2003年 5月 日 文章标识(ISSN) 相关项目 电孤离子镀(Ti,M〕N硬质薄膜与硬质梯度薄膜研究

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