搜索结果: 1-4 共查到“材料的组织、结构、缺陷与性能 TiN”相关记录4条 . 查询时间(0.062 秒)
第一性原理计算TiN(111)/BN/TiN(111)界面的电子结构、成键特性和结合强度
纳米复合薄膜 氮化物 界面 第一性原理
2009/10/15
利用第一性原理计算方法研究了TiN(111)/BN/TiN(111)界面的16个理论界面构型.计算结果表明, 最稳定界面构型为top-top-BN 构型, 此构型中B原子只与周围N原子成键, 为四面体配位. 同时计算了top-top-BN构型的电子结构和成键特性以及界面结合强度, 结果表明, top-top-BN构型界面上的键为较强共价键,
其界面结合强度比TiN(111)板层或TiN块体材料的...
脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响
脉冲偏压 电弧离子镀 Ti/TiN纳米多层薄膜
2007/12/28
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜，采用正交实验法设计脉冲偏压电参数，考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响。结果表明, 在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中, 脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素；当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900 V、占空比为50%及频率为30 kHz时, 薄膜硬度可高达34.1 GPa,...
残余氧对TiN+Si3N4纳米复合薄膜硬度的影响
PCVD TiN Si3N4 纳米
2007/12/27
用直流等离子体增强化学气相沉积设备在不锈钢表面沉积纳米晶TiN和纳米非晶TiN+Si3N4复相薄膜。主要研究了氧元素对薄膜硬度的影响。结果表明,薄膜中极其微量的氧含量就会使nc－TiN + a－Si3N4薄膜的硬度大幅降低。薄膜中氧含量小于0.2%(原子分数)，薄膜硬度可以达到45—55 GPa，而氧含量升至1%—1.5%后，薄膜硬度降至30 GPa左右。其原因与晶界处形成SiOx相有关。
SiO2层晶化对TiN/ SiO2纳米多层膜结构和性能的影响
无机非金属材料 TiN/ SiO2纳米多层膜 外延
2007/10/26
文章摘要：
采用多靶磁控溅射法制备了一系列具有不同SiO2调制层厚的TiN/SiO2纳米多层膜. 利用X射线衍射、X射线能量色散谱、扫描电子显微镜、高分辨电子显微镜和微力学探针表征和研究了多层膜的生长结构和力学性能. 结果表明, 具有适当厚度(0.45~0.9 nm)的SiO2调制层, 在溅射条件下通常为非晶态, 在TiN层的模板作用下晶化并与TiN层共格外...