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Nitrogen plasma source ion implantation (PSII) for improvement of blood-compatibility of silicon
2007/7/28
期刊信息
篇名
Nitrogen plasma source ion implantation (PSII) for improvement of blood-compatibility of silicon
语种
英文
撰写或编译
作者
P.Yang,G.J.Wan,X.Xie,Y.X.Leng,H.F.Zhou,P.K.Chu and N.Huang*
第一作者单位
刊物名称
Key Engi...